2022-2028年中国物理气相沉积设备投资战略规划市场调研报告

物理气相沉积(PVD)技术是指在真空条件下采用物理方法将材料源（固体或液体）表面气化成气态原子或分子，或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术，物理气相沉积是主要的表面处理技术之一。为了保证处理后的工件硬度和使用寿命，PVD处理技术对原材料有一定的要求。

镀膜的主要工艺有物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）。PVD技术是目前主流镀膜方法，其中的溅射工艺在半导体、显示面板应用广泛。PVD技术分为真空蒸镀法、溅镀法和离子镀法。三种方法各有优劣势：真空蒸镀法对于基板材质没有限制；溅镀法薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜好；离子镀法的绕镀能力强，清洗过程简化，但在高功率下影响镀膜质量。不同方法的选择主要取决于产品用途与应用场景。

薄膜沉积设备主要负责各个步骤当中的介质层与金属层的沉积，包括CVD（化学气相沉积）设备，PVD（物理气相沉积）设备和ALD（原子层沉积）设备等。数据显示，2017至2020年，全球半导体薄膜沉积设备市场规模从125亿美元增长至172亿美元，预计到2025年将达340亿美元左右。

PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性、高耐腐蚀性及化学稳定性，膜层的寿命更长，经过批量的应用及生产验证，不仅汽车冲压件的拉伤问题得到了长期的解决，而且对比其他表面处理技术，PVD表面处理技术具有基材不易变形、不易开裂、可反复镀膜的优势，广泛应用于冲压模具领域，大大解决了模具拉毛问题及汽车外覆盖件面品问题，市场前景广阔。

2022-2028年中国物理气相沉积设备投资战略规划市场调研报告

第一章 物理气相沉积设备行业综述

第二章 物理气相沉积技术分析

第一节 物理气相沉积流程

第二节 物理气相沉积技术特点

第三节 物理气相沉积技术演进及不同技术的对比

第四节 物理气相沉积沉积材料类型

第五节 物理气相沉积设备配置

第六节 物理气相沉积技术应用

第七节 物理气相沉积专利申请及公开情况

第八节 物理气相沉积技术趋势

第三章全球物理气相沉积设备行业发展现状

第一节 全球物理气相沉积设备行业发展历程

第二节 全球物理气相沉积技术发展现状分析

第三节 全球物理气相沉积设备行业发展现状分析

第四节 全球物理气相沉积设备行业市场规模体量

第五节 全球物理气相沉积设备行业市场竞争格局

第六节 全球物理气相沉积设备行业发展趋势分析

第七节 全球物理气相沉积设备行业发展经验借鉴

第四章中国物理气相沉积设备行业发展现状

第一节 中国物理气相沉积设备行业发展历程

第二节 中国物理气相沉积设备行业对外贸易状况

第三节 中国物理气相沉积设备行业企业市场类型及入场方式

第四节 中国物理气相沉积设备行业市场供给状况

第五节 中国物理气相沉积设备行业招投标市场解读

第六节 中国物理气相沉积设备行业市场需求状况

第七节 中国物理气相沉积设备行业市场行情走势

第五章中国物理气相沉积设备行业竞争状况

第一节 中国物理气相沉积设备行业市场竞争布局状况

第二节 中国物理气相沉积设备行业市场竞争格局

第三节 中国物理气相沉积设备行业市场集中度分析

第四节 中国物理气相沉积设备行业波特五力模型分析

第五节 中国物理气相沉积设备行业投融资、兼并与重组状况

第六章中国物理气相沉积设备产业链全景梳理

第一节 物理气相沉积设备产业链结构梳理

第二节 物理气相沉积设备产业链生态图谱

第三节 物理气相沉积设备行业成本结构分析

第四节 中国半导体硅片市场分析

第五节 物理气相沉积沉积材料市场分析

第六节 物理气相沉积设备零部件市场分析

第七章物理气相沉积设备行业细分市场分析

第一节 物理气相沉积设备行业细分市场结构

第二节 物理气相沉积设备市场分析：溅射PVD

一、溅射PVD市场概述

二、溅射PVD市场发展现状

三、溅射PVD发展趋势前景

第三节 物理气相沉积设备市场分析：蒸镀PVD

一、 蒸镀PVD市场概述

二、 蒸镀PVD市场发展现状

三、蒸镀PVD发展趋势前景

第四节 其他物理气相沉积设备市场概况（分子束外延、电弧等离子、离子镀膜等）

第八章中国物理气相沉积设备市场需求状况

第一节 中国物理气相沉积设备行业下游应用场景/行业领域分布

第二节 中国半导体领域物理气相沉积设备需求潜力分析

第三节 中国平板显示器（FPD）领域物理气相沉积设备需求潜力分析

第四节 中国太阳能发电领域物理气相沉积设备需求潜力分析

第五节 其他领域物理气相沉积设备需求潜力分析

一、物理气相沉积设备在切削工具领域的应用

二、 物理气相沉积设备在医疗设备领域的应用

第九章全球及中国物理气相沉积设备企业布局案例研究

第一节 应用材料（AMAT）

一、企业发展历程

二、企业发展状况

三、企业物理气相沉积设备业务布局现状

第二节 东京电子（TEL）

一、企业发展历程

二、企业发展状况

三、企业物理气相沉积设备业务布局现状

第三节 先晶半导体（ASMI）

一、企业发展历程

二、企业发展状况

三、企业物理气相沉积设备业务布局现状

第四节 中国物理气相沉积设备企业布局案例分析

一、北方华创科技集团股份有限公司

二、 中电科电子装备集团有限公司

三、科睿设备有限公司

四、 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

五、合肥科晶材料技术有限公司

六、 浙江上方电子装备有限公司

七、 成都南光机器有限公司

第十章中国物理气相沉积设备行业市场前景预测分析

第一节 中国物理气相沉积设备行业SWOT分析

第二节 中国物理气相沉积设备行业发展潜力评估

第三节 中国物理气相沉积设备行业发展前景预测

第四节 中国物理气相沉积设备行业发展趋势预判

第十一章中国物理气相沉积设备行业投资战略及建议

第一节 中国物理气相沉积设备行业进入与退出壁垒

第二节 中国物理气相沉积设备行业投资风险预警

第三节 中国物理气相沉积设备行业投资价值评估

第四节 中国物理气相沉积设备行业投资机会分析

第五节 中国物理气相沉积设备行业投资策略与建议

第六节 中国物理气相沉积设备行业可持续发展建议