苏大维格：微纳光学制造领域经过多年的研究与开发

一、公司介绍苏州苏大维格光电科技股份有限公司是由苏州苏大维格数码光学有限公司于2008年7月22日整体变更设立。本次发行前，陈林森直接持有本公司36.01%的股份，本次发行后陈林森持有本公司27.01%的股份，是公司的控股股东，是公司实际控制人。

公司主要从事微纳光学产品的设计、开发与制造，关键制造设备的研制和相关技术的研发服务。公司的微纳光学产品包括公共安全防伪材料、镭射包装材料、新型显示光学材料三类；设备主要是微纳光学产品制造用光刻设备。

二、公司竞争优势从行业竞争情况来看，我们总结出公司的核心竞争优势主要有：

1、技术研发优势。公司在微纳光学制造领域经过多年的研究与开发，积累了多项拥有自主知识产权的核心技术。目前，公司已取得29项专利，其中25项发明专利，4项实用新型专利。基于光刻设备控制软件的研究，公司设计开发了系列专业光刻与图像处理软件，取得5项计算机软件著作权。公司建有“两站三中心”作为技术研发的强大后盾，“两站”即2个科研工作站：江苏省企业院士工作站、苏州工业园区博士后科研工作站苏大维格站；“三中心”即1个国家级研究中心和2个省级研究中心：数码激光成像与显示国家地方联合工程研究中心、江苏省数码激光图像与新型印刷工程技术研究中心和江苏省微纳柔性制造工程技术研究中心。