2020-2026年中国光刻胶行业市场营销战略及未来发展潜力报告

报告编号：540668Ray雷电竞iOS官网 www.getcxbot.com2020-03-26 13:34:53

【报告名称:】2020-2026年中国光刻胶行业市场营销战略及未来发展潜力报告
【报告格式:】纸质版/电子版
【交付方式:】特快专递/E-mail
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光刻胶又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像（见图光致抗蚀剂成像制版过程）。

光刻胶作为光刻过程的核心材料，其质量和性能直接决定集成电路的性能、良率。伴随着先进节点所需光刻胶分辨率的提升以及多次图形化技术的应用，光刻胶的成本占比以及市场规模呈现不断提升趋势。

光刻胶是微电子工艺制造中的关键材料，其技术原理是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质，由成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂等主要化学品成分和其他助剂组成。在光刻工艺中，光刻胶被均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同的衬底上，经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。

负型光刻胶：负胶在经过曝光后，受到光照的部分变得不易溶解，留下光照部分形成图形。胶是最早被应用在光刻工艺上的光刻胶类型，它拥有工艺成本低、产量高等优点。但是负胶在吸收显影液后会膨胀，这会导致其分辨率不如正胶。因此负胶经常会被用于分立器件和中小规模集成电路等分辨率不太高的电路的制作中。

正型光刻胶：正胶在经过曝光后，受到光照的部分将会变得容易溶解，只留下未受到光照的部分形成图形；大规模集成电路、超大规模集成电路以及对感光灵敏度要求更高的集成电路（亚微米甚至更小尺寸的加工技术）的制作，通常会选用正胶来完成图形的转移。

半导体光刻胶的供应厂商主要集中在美国和日本。主要企业有日本的TOK、日本JSR、富士胶片、信越化学、住友化学，美国陶氏化学等。光刻胶具备较高的技术壁垒和客户壁垒，因此行业整体集中度情况较高，前五市占率总和高达77%。中国的光刻胶供应厂商主要有北京科华微电子、苏州瑞红，南大光电等，国内相关厂商技术追赶迅速，预计伴随KrF光刻胶、ArF光刻胶研发完毕顺利完成客户验证后，国产光刻胶将进入国产替代的高峰期。

本《2020-2026年中国光刻胶行业市场营销战略及未来发展潜力报告》对光刻胶行业进行了详细的光刻胶行业分析研究，内容包括行业国内市场分析，国外光刻胶行业市场分析，光刻胶行业市场供需分析、光刻胶行业竞争对手分析，光刻胶行业前景分析，光刻胶行业市场风险分析。最后光刻胶行业研究报告对光刻胶行业前景做出了研究预测。让您全面、准确地把握整个光刻胶行业的市场走向和发展趋势。

光刻胶行业研究报告数据分析以权威的国家统计数据为基础，采用宏观和微观相结合的分析方式，利用科学的统计分析方法，在描述行业概貌的同时，对光刻胶行业进行细化分析，包括行业的内外部环境、行业发展现状、产业链发展状况、市场供需、竞争格局、标杆企业、发展趋势、机会风险、发展策略与投资建议等进行了分析，并重点分析了我国光刻胶行业将面临的机遇与挑战。光刻胶行业研究报告中主要运用图表和文字方式，直观地阐明了光刻胶行业市场发展状况，是光刻胶行业企业、学术科研单位、投资企业等单位了解光刻胶行业最新发展动向、有效规避光刻胶行业投资风险必不可少的参考资料。